工艺介绍
● 研磨抛光材料事业部专业研发生产： 聚氨酯橡塑聚合物、CR(Neoprene)、SBR、SCR（CS）、PU FOAM、纳米聚合物等高分子耐磨材料的研发生产。聚氨酯耐磨皮、阻尼布、纳米聚合布、导电布、液晶配向布、超纤布、合成纤维聚合物等功能用布的研发生产美国原料技术，专业生产，厂家直销：1 : 抛光阻尼布、SUBA抛光垫、合成纤维抛光垫、CMPPAD抛光垫、聚氨酯抛光研磨片、CMP抛光垫功能制作2 : 蓝宝石抛光垫、2.5D/3D弧面曲面抛光垫、聚氨酯抛光皮、氧化铈抛光垫、抛光绒布、无蜡抛光吸附垫、无蜡垫3 : 铝合金镜面抛光皮、聚氨酯抛光轮、不锈钢/铜抛光垫、研磨盘、玻璃抛光吸附垫可完美替代：POLYPAS 、Supreme (Politex) 、UNI-NAP精抛皮、PRIMAR 、SUBA800600白色抛光垫片、UNALUX终道抛光垫
售后服务
"CMPPAD"本著：“诚信、务实、专业、创新”的企业宗旨，竭诚与广大客户共发展，共创美好未来。
